自动研磨和抛光的一个显着区别是它需要为设计程序设置参数。研磨程序通常使用大约 300 RPM 的旋转速度，而抛光程序将使用大约 150 RPM 的速度。

另一个区别是旋转方向可能会有所不同。沿与工作轮相反的方向移动样品架将导致更高的去除率，但也会导致更高的变形。 

相比之下，同步旋转 - 样品架和工作轮都沿同一方向移动 - 不那么激进，导致去除率更低，但变形也更少。

将样品架放置在离工作轮中心太近的位置会导致样品超出砂轮边缘，从而导致磨削和抛光动力学不理想。理想情况下，样品架应超出工作轮边缘约 1 厘米。

大多数自动研磨和抛光机允许以中心压力或单压力模式施加力。中央压力模式对整个样品架施加力，以及夹在其中的任何样品。此选项非常适合用于大样本或单个形状。

但是，单压模式不能固定样品。一个或多个样品在支架中松散，可以自由移动。样品必须具有圆形形状才能从这种操作模式中受益。通过销直接施加力。

自动研磨和抛光机要求操作员设置每个单独步骤的持续时间，包括激活和设置剂量参数，以用于任何可能正在使用的自动计量系统。

即使在使用自动研磨和抛光工艺时，也应在每个步骤之间清洁样品